YS/T 819-2012 电子薄膜用高纯铜溅射靶材

标准详情与信息

标准名称：电子薄膜用高纯铜溅射靶材

标准号：YS/T 819-2012

发布日期：2012-11-07

实施日期：2013-03-01

管理部门：工业和信息化部

行业分类：

起草单位与起草人

起草单位包含：宁波江丰电子材料有限公司、有研亿金新材料股份有限公司

起草人：王学泽、宋佳 等

*本网站标准资料仅供参考，使用标准请以正式出版的标准版本为准。